在全球半导体产业中，荷兰的ASML公司一直是EUV光刻机的重要供应商，但其决策似乎深受美国影响。美国通过控制ASML的光刻机出口，间接影响了全球芯片产业的格局。
然而，ASML的EUV光刻机正面临发展困境，技术提升愈发困难，价格高昂令人难以接受。同时，中国光刻机技术取得突破，离浸润式DUV光刻机仅一步之遥，一旦成功，美国将难以继续控制。
新技术的涌现也对光刻机地位构成挑战。佳能推出的NIL纳米压印技术、电子束光刻技术等，均有望在不依赖EUV光刻机的情况下制造先进芯片。
新封装技术、Chiplet小芯粒技术以及光电芯片、碳基芯片等的出现，也为提升芯片性能提供了新途径，进一步削弱了光刻机的重要性。
在此背景下，ASML的光刻机作为美国控制全球芯片产业的工具，其效力正逐渐减弱。
