拓荆科技近日披露的2026年半年度报告显示，公司上半年经营业绩实现跨越式增长，营业收入达29.13亿元，较去年同期增长49.06%；归属于母公司股东的净利润13.43亿元，同比增幅高达1324.10%。这一亮眼表现主要得益于半导体行业技术迭代加速、国产替代需求激增以及下游应用领域的持续扩张。
报告期内，公司薄膜沉积设备与三维集成设备双轮驱动战略成效显著。PECVD、ALD、SACVD等核心产品不仅在先进制程领域实现技术突破，更通过规模化量产形成竞争优势。其中PECVD设备获得客户批量复购，ALD设备在客户端完成多台重复订单验收，量产规模持续攀升。截至6月末，公司累计出货反应腔超3800个，覆盖近100条生产线，薄膜沉积设备累计流片量突破6亿片。
财务数据显示，公司近五年营收呈现阶梯式增长态势，从2022年上半年的5.23亿元稳步提升至2026年的29.13亿元。净利润表现虽在2025年出现短期波动，但2026年实现强势反弹，同比增幅达1324.10%。研发端持续发力，上半年投入4.23亿元，同比增长21.09%，为技术突破提供坚实保障。加权平均净资产收益率提升至18.11%，每股收益达4.77元，均创历史新高。
在应用领域拓展方面，公司设备已全面渗透至先进存储、逻辑芯片、功率器件等七大战略市场。特别是在Micro-OLED显示、硅光通信等新兴领域，三维集成设备凭借独特技术优势获得客户认可。报告披露，公司已构建覆盖28nm及以下先进制程的完整产品矩阵，技术自主可控程度显著提升。
基于业绩表现，公司同步推出2026年度利润分配预案，拟向全体股东每10股派发现金红利3.5元（含税）。市场分析认为，随着国产替代进程加速和先进制程需求释放，拓荆科技作为半导体设备领域的重要参与者，有望持续受益于行业红利周期。
