在当前先进的芯片制造工艺中，EUV光刻机已成为7纳米及以下工艺制程不可或缺的关键设备，且尚未有可替代方案。令人瞩目的是，全球范围内，唯一能够生产这种高端光刻机的企业是ASML，这一事实凸显了其在行业中的独特地位。
鉴于美国对ASML向中国出口EUV光刻机的限制，国内对于自主掌握这一技术的需求愈发迫切。缺乏EUV光刻机，我国在突破7纳米以下芯片工艺方面或将面临重大障碍。
面对这一困境，社会上出现了这样一种声音：既然中国以模仿能力强著称，何不尝试拆解一台EUV光刻机，通过逆向工程实现“山寨”复制？毕竟，国内在山寨某些产品方面确实展现出了不俗的能力。
然而，现实远比想象中复杂。EUV光刻机的制造并非简单的拆解与复制。有传闻称，中国科研团队曾在欧洲参观光刻机厂时，被对方直言即使提供图纸，也难以复制。这背后的原因在于EUV光刻机的极端复杂性。
EUV光刻机涉及全球5000多家供应链企业，整个系统由45万套零件构成，进一步细分则超过300万个零部件。其运输与组装过程同样繁琐，需要200多个集装箱和200多名工程师耗时半年才能完成。这仅仅是硬件层面的挑战。
更为关键的是，这些零件中有许多是全球独家供应，如蔡司的物镜系统，且这些供应商往往只与ASML合作。这意味着，即使能够拆解EUV光刻机，也无法找到所有零件的替代品，更别提复制其精密的制造过程了。
实际上，国内的山寨能力往往局限于技术含量较低的产品，且主要集中在外观层面。在品质与性能上，山寨产品往往难以与正品媲美。对于EUV光刻机这样高度复杂、技术密集的产品，山寨之路根本行不通。
换个角度思考，如果山寨真的如此简单，我们为何还要费尽心思去山寨EUV光刻机呢？直接山寨芯片岂不是更为直接？但现实是，无论是芯片还是光刻机，高科技产品都无法通过简单的山寨来实现突破。真正的技术进步，必须依靠自主创新和持续研发。
